先导基电旗下凯世通精彩亮相IC China 2025,引领国产离子注入装备“芯”高度

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2025年11月25日,为期三天的第二十二届中国国际半导体博览会(IC China 2025)在北京国家会议中心圆满闭幕。本届大会以“凝芯聚力 链动未来”为主题,汇聚全球半导体产业链领军企业,先导基电(600641.SH)旗下国产离子注入机头部企业凯世通受邀参展,携全系列高端离子注入设备与全周期一站式服务方案精彩亮相。凯世通副总经理张长勇近期接受了集微网采访,围绕公司产品优势、未来产品规划以及国产设备突破等话题进行深入解读。

全谱系产品集中亮相,核心机型量产能力持续提升

离子注入机与光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备并称为晶圆厂的“四大核心前道工艺设备”,决定着芯片最基本的电学性能,是产业链自主可控的关键环节。凯世通长期深耕离子注入核心技术,致力于为集成电路行业客户提供自主可控的离子注入全周期一站式服务方案。

本次展会,凯世通展出了涵盖低能大束流离子注入机系列、高能离子注入机系列、中束流离子注入机系

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