基石药业宣布，其自身免疫与炎症领域管线之一CS2015 (OX40L/TSLP双特异性抗体)将于2025年美国过敏,哮喘和免疫学会(ACAAI)年度科学会议上以“电子壁报+现场口头汇报”的形式展出。这是CS2015在国际学术会议上的首次亮相，摘要和电子壁报的完整内容目前已正式上线ACAAI官网。

CS2015采用不对称分子结构,同时靶向OX40L和TSLP,两个经临床概念验证能够有效阻断2型炎症的关键调节因子。该分子采用了突变的Fc,以达到减弱其与Fcy R的结合,并延长体内循环半衰期的目的,最终优化药代动力学(PK)特征,支持长期的给药间隔。CS2015出色的分子稳定性,为开发高浓度皮下制剂提供了保障。同时,其卓越的可开发性,为高产量和规模化生产奠定了基础。

CS2015先导分子对OX40L/OX40和TSLP/TSLPR信号通路展现出强效抑制能力。CS2015能够分别强效阻断hOX40L与hOX40报告细胞以及hTSLP与hTSLPR/IL-7R a 报告细胞的结合; CS2015的阻断活性与参照(亲本)抗体相当,其IC50(半抑制浓度)值在单个纳摩尔或亚纳摩尔级别。

CS2015先导分子可抑制TSLP/OX40L诱导的原代CD4+ T细胞炎症因子释放和TSLP诱导的人单核细胞与人外周血单核细胞(PBMC)中TARC(CCL17)的释放。

CS2015在OX40和TSLP人源化小鼠的特应性皮炎(AD)模型中,展现出强大的疾病控制能力。在MC903诱导的AD模型中,CS2015先导分子能够迅速减轻皮肤损伤严重程度,包括耳部及表皮增厚; 减少免疫细胞(尤其是肥大细胞)浸润; 及减少瘙痒事件发生。

CS2015先导分子K19LS平均半衰期为21天(504.6小时,皮下注射[SC])和25.7天(617.6小时,静脉注射[IV]); K19LS的清除率分别为2.4(SC)和2.7(IV)ml/天/kg,并且吸收良好,具有出色的生物利用度。

CS2015还展现出在高温(40°C)下出色的加速稳定性; 低黏度(100mg/mL溶液的黏度评分仅为3.7),有望用于高浓度皮下注射; 在经鼻内OVA/TSLP诱导的哮喘模型中,通过降低IL-4、CCL17、IgE等的分泌,以及减轻肺部病理变化展现出强效有效性。

基石药业将深入开发CS2015用于治疗Th2细胞介导的炎症性疾病,包括AD、哮喘、化脓性汗腺炎(HS)、慢性阻塞性肺疾病(COPD)、慢性鼻窦炎伴鼻息肉(CRSwNP)等。此次壁报展示的安排:【标题】:CS2015 a TSLP/OX40L Bispecific Antibody as a Potential Novel Therapeutic Agent for Type 2 Inflammation Diseases 【展示形式】:电子壁报演示及15分钟口头报告(电子壁报编号:R377)。