盛美上海取得基板清洗法相关专利，发明基板清洗方法，含多步除泡及清洗工艺

用户头像
盛美上海(SH688082)
   

来源：新浪证券-红岸工作室

2月14日消息，国家知识产权局信息显示，盛美半导体设备（上海）股份有限公司申请一项名为“基板的清洗方法及装置”的专利，授权公告号CN111656484B，授权公告日为2026年2月13日。申请公布号为CN111656484A，申请号为CN201880087245.9，申请公布日期为2026年2月13日，申请日期为2018年1月23日，发明人王晖、王希、张晓燕、陈福发，专利代理机构上海专利商标事务所有限公司，专利代理师陆嘉，分类号H10P70/00、H10P72/00。

专利摘要显示，本发明揭示了一种基板（2010、3010、4010、5010、6010、7010、8010）清洗方法，包括以下步骤：将基板（2010、3010、4010、5010、6010、7010、8010）放置在基板保持装置（1314）上；将清洗液输送到基板（2010、3010、4010、5010、6010、7010、8010）表面；实施预处理工艺以从基板（2010、3010、4010、5010、6010、7010、8010）表面分离气泡（2050、2052、3050、4050、5050、6050、7052、70584、7056、8052、8054、8056）；以及实施超声波或兆声波清洗工艺以清洗基板（2010、3010、4010、5010、6010、7010、8010）。

天眼查数据显示，盛美半导体设备（上海）股份有限公司成立日期2005年5月17日，法定代表人HUI WANG，所属行业为专用设备制造业，企业规模为大型，注册资本48016.4789万人民币，实缴资本37264.99万人民币，注册地址为中国（上海）自由贸易试验区丹桂路999弄5、6、7、8号全幢。盛美半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了16家企业，参与招投标项目172次，财产线索方面有商标信息39条，专利信息671条，拥有行政许可31个。

盛美半导体设备（上海）股份有限公司近期专利情况如下：

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人
1基片湿法处理装置及基片处理设备发明专利实质审查的生效、公布CN202511696240.42025-11-19CN121149062A2025-12-16李亚洲、贾社娜、王俊、林金木、方波、李昱
2基板处理装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511376375.22025-09-25CN120878605A2025-10-31苏政、贾社娜、邓新平
3处理液供给机构及涂覆装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511292109.12025-09-11CN120790418A2025-10-17程成、吴均、赵中旭、徐飞、王坚、李康植
4供液装置、清洗装置、清洗方法及计算机可读介质发明专利授权CN202511292108.72025-09-11CN120767230B2026-01-27苏政、贾社娜、李彬、邓新平
5排气用防腐组件及炉管设备发明专利授权CN202511100391.92025-08-07CN120591755B2025-12-12段航、周冬成
6单片晶圆干燥设备及干燥方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510873904.32025-06-27CN120403215A2025-08-01谢翔、张晓燕、胡海波、陶泽魏、李兴、宗源
7薄膜沉积装置及薄膜沉积方法发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510874680.82025-06-27CN120366747B2025-09-23戴明宇、周培垄、李天天、费红财、陈更明、成康、金京俊
8基片盒存储装置、工作方法及基片处理设备发明专利授权、公布CN202510780743.32025-06-12CN120319704B2025-10-17许创威、贾社娜、张大海
9密封件外观专利授权CN202530280752.72025-05-19CN309744402S2026-01-23付延奇、贺斌、杨配贤、崔玉民
10双级溅液监测系统、方法及计算机可读介质发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510594876.12025-05-09CN120127033B2025-08-15谢翔、张晓燕、胡海波、陶泽魏、宗源
11晶圆卡匣调整装置及晶圆浸泡装置发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510526003.72025-04-25CN120072715B2025-07-25王双五、苏飘、朱国辉、宗源、胡海波、张晓燕
12化学液供应系统、换液方法、基板处理装置和介质发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510432151.22025-04-08CN119934438B2025-08-08陶泽魏、胡海波、张晓燕
13化学液供应系统、换液方法、基板处理装置和介质发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510432151.22025-04-08CN119934438B2025-08-08陶泽魏、胡海波、张晓燕
14炉管设备发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510312070.92025-03-17CN119824390B2025-07-11杨扬、贾社娜、张大海
15炉管设备发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510312070.92025-03-17CN119824390B2025-07-11杨扬、贾社娜、张大海
16进气管及炉管设备发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510295477.52025-03-13CN119800332B2025-07-04蒯蔚、周冬成、蒋攀辉
17进气管及炉管设备发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510295477.52025-03-13CN119800332B2025-07-04蒯蔚、周冬成、蒋攀辉
18基板处理设备及方法发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202510114602.82025-01-23CN120143565A2025-06-13徐飞、李康植、吴均、杨仁政、程成、王坚
19晶圆缓冲层边缘的清洗方法和设备发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510066274.92025-01-16CN119480619B2025-04-25戴奔、刘畅、仰庶、张晓燕
20晶圆缓冲层边缘的清洗方法和设备发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510066274.92025-01-16CN119480619B2025-04-25戴奔、刘畅、仰庶、张晓燕
21基板处理装置发明专利实质审查的生效、公布CN202411383228.32024-09-29CN120033106A2025-05-23王晖、陶晓峰、黄天宇、韩阳、何西登、贾社娜、刘文博、张晓燕、胡海波、刘阳、吴杨
22用于方形基板的卡盘发明专利公布CN202411358048.X2024-09-26CN121192044A2025-12-23王晖、王坚、吴均、杨宏超、杨小亚、刁建华
23支撑装置及基板退火设备发明专利授权CN202411351739.72024-09-25CN119920747B2025-11-14顾昱、王玉玺、杨宏超、王晖、王坚
24管路拆装工装发明专利授权CN202411028309.12024-07-29CN119927842B2025-12-19杨超繁、贾社娜、张大海
25炉管设备发明专利公布CN202411027169.62024-07-29CN121442982A2026-01-30刘满成、刘权、孙旭海
26排液装置及基板处理设备发明专利公布CN202411028300.02024-07-29CN121432816A2026-01-30徐飞、吴均、隋涛、程成、王晖、李康植
27工艺管及炉管设备发明专利公布CN202411003481.12024-07-24CN121409008A2026-01-27王晖、杨超繁、贾社娜、张大海、全钟赫、沈周燮、金睿娜、尹炡友
28基板热处理装置、热处理方法及涂覆显影设备发明专利公布CN202411002929.82024-07-24CN121419569A2026-01-27吴均、徐飞、那洪亮、王晖、李康植
29凸块电镀方法发明专利公布CN202410980780.42024-07-19CN121363025A2026-01-20王坚、王晖、贾照伟、陆陈华、代兰奎
30基板处理装置及基板处理方法发明专利公布CN202410914104.72024-07-08CN121310877A2026-01-09王晖、王坚、吴均、杨宏超、杨小亚、刁建华、贾照伟
31半导体冷却装置及半导体湿法刻蚀系统发明专利实质审查的生效、公布CN202410861050.22024-06-28CN121230359A2025-12-30练长均、高耀栋、宋成亮、刘鼎新、何西登、谢潮东、方毅敏
32一种组分分离装置、液体回收设备及方法发明专利公布CN202410867969.22024-06-28CN121222097A2025-12-30魏雄飞、石宁、王文军、张晓燕、邓新平
33电镀装置及电镀方法发明专利公布CN202410865294.82024-06-28CN121228330A2025-12-30吴勐、肖炎、杨宏超、贾照伟、王坚、王晖
34基板处理方法发明专利公布CN202410856154.42024-06-27CN121228332A2025-12-30王晖、王坚、贾照伟、杨宏超、刁建华、肖炎、吴勐
35刷子组件和半导体清洗设备发明专利公布CN202410856136.62024-06-27CN121222715A2025-12-30孙建、朱国辉、王晖
36清洁系统及退火装置发明专利公布CN202410854337.22024-06-27CN121222752A2025-12-30刘林波、余齐兴、金一诺、司生辉、宋永灏、王玉玺
37基板边缘刻蚀装置发明专利公布CN202410854349.52024-06-27CN121237674A2025-12-30顾争荣、初振明、王东东、张晓燕、贾福金、向阳
38电镀装置发明专利公布CN202410852582.X2024-06-27CN121228324A2025-12-30花宇、杨宏超、金一诺、王坚、王晖
39加热装置及基板处理设备发明专利公布CN202410852574.52024-06-27CN121237673A2025-12-30王晖、贾社娜、苏政、路添竣、陶泽魏、季昆、邓新平
40基板定位装置及基板定位方法发明专利公布CN202410843707.22024-06-26CN121215586A2025-12-26王晖、王坚、贾照伟、杨宏超、杨小亚
41化学气相沉积方法发明专利公布CN202410844357.12024-06-26CN121204634A2025-12-26孙旭海、刘满成
42高温炉管的密封结构及密封方法发明专利实质审查的生效、公布CN202410825152.92024-06-24CN119845044A2025-04-18吕策、张大海、王晖、沈周燮
43边缘刻蚀位置的控制方法及装置发明专利公布CN202410825019.32024-06-24CN121215519A2025-12-26庞博、肖登、初振明、张晓燕、王晖
44边缘清洗装置及边缘清洗方法发明专利实质审查的生效、公布CN202410816709.22024-06-21CN120237044A2025-07-01王晖、王坚、贾照伟、杨宏超、杨小亚
45用于方形基板的卡盘发明专利公布CN202410816350.92024-06-21CN121192043A2025-12-23王晖、王坚、吴均、杨宏超、杨小亚、刁建华
46用于电镀设备的检测方法及检测系统发明专利公布CN202410782849.22024-06-17CN121155061A2025-12-19石轶、左经之、任正博、王晖、金一诺
47晶圆处理装置发明专利公布CN202410782703.82024-06-17CN121171920A2025-12-19戴明宇、贺斌、费红财、田连刚、朱志君、金京俊
48立式炉管发明专利公布CN202410783591.82024-06-17CN121161259A2025-12-19吕策、王晖、贾社娜、张大海
49薄膜沉积装置及薄膜沉积方法发明专利公布CN202410783053.92024-06-17CN121161269A2025-12-19田连刚、王晖、贺斌、金京俊
50一种用于基板夹具的密封件以及基板夹具发明专利公布CN202410775356.62024-06-14CN121137756A2025-12-16陆陈华、杜阳、杨宏超、贾照伟、张静、王坚、王晖

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI大模型基于第三方数据库自动发布，不代表新浪财经观点，任何在本文出现的信息均只作为参考，不构成个人投资建议。如有出入请以实际公告为准。如有疑问，请联系biz@staff.sina.com.cn。

来源：新浪财经

为提升阅读体验，雪球对本页面进行了排版优化

风险提示：用户发表的所有文章仅代表个人观点，与雪球的立场无关。投资决策需建立在独立思考之上。