2025年9月10-12日,第26届中国国际光电博览会(简称 “CIOE中国光博会”)在深圳盛大举行。苏大维格(300331)惊艳亮相,微纳光子制造前沿产品吸引业界关注。
本届展会吸引力再创新高,全球超3800家优质光电企业齐聚现场,八大主题展聚焦信息通信、精密光学、摄像头技术及应用、激光及智能制造、红外&紫外、智能传感、新型显示、AR&VR、光电子创新等核心领域,成功构建起覆盖全链条的光电产业生态圈。
PART.01
现场速递
展会现场,业专家、专业观众以及潜在合作伙伴纷纷驻足交流,苏大维格技术人员详细介绍了直写光刻领域的创新产品,以及多款高精度、高可靠性的光学元器件。
PART.02
展品回顾
图形化直写光刻系统
苏大维格攻克超大面积上微纳形貌的高精度与高效率兼容性光刻国际难题,实现海量数据(603138)网络协同与实时高速直写光刻,紫外三维直写光刻装备工业运行,推动一系列大口径平面光电子器件自主研制与应用。
光束整形Diffuser
应用领域:激光加工、激光雷达(LiDAR)、激光显示、光学传感器、医疗激光
高精度光栅尺
应用领域:高端数控机床、精密测量设备、航空航天、光学仪器、自动化设备
纳米金属光栅偏振片
应用领域:虚拟现实设备、LiDAR for AGV、车载相机、生物识别、工业检测、雷达抗干扰
从工业母机到精密元器件,从前沿技术到消费产品,苏大维格始终专注研发创新,不做“孤芳自赏”的技术,而是能真正落地到行业场景中的解决方案,通过不断推出前沿产品和技术,苏大维格不仅为行业发展注入了新的活力,也为众多应用领域带来了更多的可能性。
欢迎业界同仁持续关注,共同探索微纳光子制造的世界!