苏大维格承办 第九届微纳光学技术与应用交流会召开
苏大维格(SZ300331)
2025年11月13-15日，由中国光学工程学会主办的第九届微纳光学技术与应用交流会在苏州召开，中国光学工程学会微纳专业委员会、苏州大学、中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、苏大维格（300331）、PhotoniX共同承办。
本届微纳光学技术与应用交流会以应用端和技术端为牵引，结合国家重大需求和产业需求，邀请高等院校、科研院所、企业的领军专家出席，苏大维格首席科学家陈林森研究员担任执行主席。
苏大维格仪器装备事业部总经理浦东林博士受邀主持微纳制造优秀成果宣讲环节。
苏大维格科研学术研究员赵悦博士对苏大维格高效混合直写光刻技术进行介绍，MiScan 200UV Pro高效混合直写光刻系统获评同期举行的“2023-2025年微纳制造成果展”优秀成果。
苏大维格新型显示事业部总经理、苏州大学教授乔文博士受邀主持“AR光波导技术与产业协同”圆桌论坛，以及“超材料与纳米光子学”专题讲座。
苏大维格新型显示事业部副部长罗明辉博士受邀发表演讲，主题为“大幅面 AR 光波导核心技术突破与产业化路径探索”，为与会专家介绍了虚实融合透明空间显示技术。
苏大维格自主研发核心元件透明纳米光场屏，以透过透明平面屏幕在深度空间成像显示的方式，实现与现实空间的融合显示，攻克了大面积纳米光刻、大口径高保真纳米压印、高显示性能的超颖结构计算模拟等技术难题。目前已在苏州丝绸博物馆实现落地应用。
苏大维格在微纳光刻、新型显示、柔性光电子材料等领域专注核心技术突破与产业化实践，并多维度参与行业会议与学术交流，积极向行业分享成果落地的成功经验，持续为微纳光子制造高质量发展注入强劲动能。