联合化学:投影式曝光机是半导体光刻工艺中的核心设备之一

用户头像
联合化学(SZ301209)
   

同花顺(300033)金融研究中心07月18日讯,有投资者向联合化学(301209)提问, 请问投影式曝光机是投影式光刻机的一类吗.工作原理是否类似?

公司回答表示,尊敬的投资者您好,卓光芮主要开展投影式曝光机的研发,投影式曝光机是半导体光刻工艺中的核心设备之一,主要用于将掩模版(光罩)上的精细电路图形,通过光学投影的方式,精确地缩小并曝光转移到涂有光刻胶的硅片(晶圆)表面,感谢您的关注!

点击进入交易所官方互动平台查看更多

来源:同花顺财经

为提升阅读体验,雪球对本页面进行了排版优化

风险提示:用户发表的所有文章仅代表个人观点,与雪球的立场无关。投资决策需建立在独立思考之上。