回复@watcherw: 我理解是两个点，第一个点是，如何理解炬光管理层所回复的euv和duv采用不同的光场原理 ，euv是极紫外光，是由真空传输，光学机制是反射镜。duv的光学机制是折射，用的是透镜。所以炬光科技说公司不参与ASML的euv光刻机的供应链。
第二个点是这个文章提到的是ASML正在研发新一代high–na euv光刻机。
这一代在研的光刻机有一个新的要求：
• 需要更高精度的光束整形、波前控制，以及自动化对准/校正。
要实现这个新的要求，我猜测仅凭反射镜是不够的，（否则也就不会升级），而是通过反射为主，衍射为辅。从原理上讲，衍射光栅可以提供在光束偏转和焦距（反射机制）的时候，更高的灵活性和精度以满足
兼顾高精度和灵活性校正。
基于这个理解，我觉得炬光去年收购smo后，获得衍射光栅（doe），而且smo的doe技术是世界领先的（老刘说过，如果不是世界第一，那也是世界前三，具体回去查查，反正肯定是世界领先），可以设计和制造2-16阶的高精度doe元件。
所以我是说炬光可以通过世界领先的doe元件（衍射光学）参与新一代的euv光刻机研发。
当然，这个是我的推测，还需要管理层的确认。$炬光科技(SH688167)$//@watcherw:回复@慢跑者397:之前公司提过euv光场匀化器和duv原理不一样，所以也只能duv了