磁谷科技有光刻机配套产品，核心为磁悬浮分子泵与氦气冷却装置，用于光刻机真空系统与光源温控系统，已进入国内头部光刻机厂商供应链，单台光刻机配套价值约1600万元（分子泵约300万+冷却装置约1300万）。其产品也可用于刻蚀机、沉积等其他半导体设备。