CVD设备

4.28
+0.08
+1.90%
CVV
 4.54 4.01 11.14万股总市值 2969.18万
 4.01 1.61% 47.40万市盈TTM 亏损
分时
5日
日K
周K
月K
季K
年K
  • MA
  • BOLL
  • 成交量
  • MACD
  • KDJ
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公司简介

CVD Equipment Corporation于1982年10月13日在纽约注册成立。该公司为航空航天、半导体和电池储能等先进材料市场设计、开发和制造化学气相沉积、热处理设备及气体输送控制系统。它通过两个可报告部门运营:CVD设备和不锈钢设计概念,后者已达成最终协议待出售。

公司名称
CVD Equipment Corporation
董事长
Lawrence J. Waldman
主要股东
ADA Partners, L.P. (19.00%)
上市日期
2007-09-20
办公地址
355 South Technology Drive Central Islip New York 11722

主要指标(USD)2025年FY(年报)

市盈率(TTM)
亏损
市净率
1.20
每股收益
-0.23
每股净资产
3.56
营业收入
2578.60万
营收同比
-4.06%
净利润
-158.50万
净利润同比
16.49%
毛利率
28.26%
净利率
-6.15%
净资产收益率
--
负债率
10.12%
总股本
693.73万
总市值(USD)
2969.18万